BOB半岛南大光电：正在研发和产业化的ArF光刻胶主要用于28nm-90nm技术工艺的集成电路芯片制造

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　　每经AI快讯BOB半岛，有投资者在投资者互动平台提问：公司生产的光刻胶是否可以用于纳米压印BOB半岛，是否具备相关技术储备？

　　南大光电（300346.SZ）9月15日在投资者互动平台表示，公司正在研发和产业化的ArF光刻胶BOB半岛BOB半岛，主要用于28nm-90nm技术工艺的集成电路芯片制造。

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